激光化学气相沉积

作品数：26被引量：67H指数：5
导出分析报告
相关领域：一般工业技术金属学及工艺更多>>
相关作者：涂溶章嵩张联盟徐青芳冯钟潮更多>>
相关机构：武汉理工大学武汉工程大学中国科学院金属研究所华中科技大学更多>>
相关期刊：《金属热处理》《无机材料学报》《激光与光电子学进展》《激光技术》更多>>
相关基金：国家自然科学基金江苏省教育厅自然科学基金安徽省教育厅资助项目中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-10
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
稀释气体流量对外延生长3C-SiC薄膜的影响
《船电技术》2022年第10期28-31,共4页朱佩佩 熊梦杨 涂溶 
3C-SiC具有带隙宽、临界击穿电场高、导热率高、载流子饱和漂移速率高等优异的物理特性,被广泛应用于大功率电子器件。3C-SiC(001)单晶薄膜具有最高的电子迁移率,能显著提高大功率场效应晶体管(MOSFET)器件的性能。本论文采用激光化学...
关键词：3C-SIC 大功率电子器件 激光化学气相沉积 
激光化学气相沉积法制备多层氧化铈缓冲层薄膜被引量：5
《武汉工程大学学报》2022年第1期42-47,共6页陈志杰 潘天宇 徐源来 赵培 
国家自然科学基金(51972241);武汉工程大学第十二届研究生教育创新基金(CX2020159)。
为了增强第二代高温超导薄膜的载流性能,通过激光化学气相沉积法在镀有LaMnO_(3)/MgO/Gd_(2)Zr_(2)O_(7)复合涂层的哈氏C276合金基板上制备了2、3、4、5和6层氧化铈缓冲层薄膜。研究了氧化铈薄膜层数对薄膜相组成、结晶度、薄膜微观形...
关键词：氧化铈缓冲层薄膜 激光化学气相沉积 晶粒尺寸 多层薄膜 
激光辅助化学气相沉积研究进展被引量：9
《光电工程》2022年第2期1-29,共29页范丽莎 刘帆 吴国龙 Volodymyr S.Kovalenko 姚建华 
国家自然科学基金资助项目(51975533);高等学校学科创新海外引智计划项目(国家“111计划”,D16004)。
激光化学气相沉积技术(LCVD)相较于传统化学气相沉积技术具有低沉积温度、高膜层纯度、高沉积效率等特点,在各类功能薄膜材料制备上有着巨大的应用前景。围绕激光化学气相沉积技术,本文详细阐述了激光热解离、激光光解离与激光共振激发...
关键词：激光化学气相沉积 薄膜制备 热解离 光解离 共振激发解离 
基于2-opt蚁群算法优化掩膜版缺陷点路径的应用研究被引量：1
《光电子技术》2021年第4期274-282,共9页徐智俊 王亚腾 熊启龙 
针对现有激光化学气相沉积设备在寻找掩膜版缺陷点时存在镜头移动行程长、镜头频繁失焦的问题,采用基于2-opt邻域搜索的蚁群算法来优化设备的修复缺陷点顺序。相对于传统的X/Y轴升序排列,此方法能够有效缩短镜头寻点时间、降低失焦概率...
关键词：掩膜版 缺陷点 激光化学气相沉积 两元素邻域搜索 蚁群算法 路径优化 
前驱体温度对激光化学气相沉积YBa2 Cu3 O7δ超导薄膜结构及性能的影响
《材料科学与工艺》2020年第2期9-17,共9页张琼 赵培 吴慰 戴武斌 GOTO Takashi 徐源来 
国家自然科学基金(51972241).
采用激光化学气相沉积法在Al2O3基底上以49μm·h-1的沉积速率高速制备了c-轴取向的YBa2Cu3O 7-δ薄膜,其中,激光功率为133 W,沉积温度1103 K,腔体压强800 Pa。研究了前驱体蒸发温度及薄膜退火温度对薄膜电学性能的影响。研究表明,Ba、C...
关键词：激光化学气相沉积 YBA2 Cu3 O7-δ薄膜 高速沉积 
激光化学气相沉积石墨烯聚焦光斑测量研究被引量：1
《激光与红外》2017年第4期437-442,共6页刘婷婷 张建寰 林坤 李珊文 
国家自然科学基金项目(No.61575165);福建省科技计划重大专项(No.2015HZ002-1)资助
激光化学气相沉积(Laser Chemical Vapor Deposition,LCVD)石墨烯制备受聚焦光斑影响很大。实时检测光斑,可实现石墨烯LCVD法可控制备。设计聚焦光斑测量光学系统,提出一种基于圆拟合的改进算法检测光斑中心和半径,计算、标定光斑面积...
关键词：激光化学 圆拟合 聚焦光斑 石墨烯 
激光修补技术在修复薄膜图形缺陷上的应用——薄膜图形缺陷激光修补机被引量：1
《电子工业专用设备》2015年第6期25-30,共6页万承华 宋体涵 
阐述了应用激光修补技术在玻璃基板上去除金属及其化合物薄膜和在玻璃基板上沉积金属薄膜的图形缺陷修补原理与方法;简述了影响薄膜图形缺陷修补质量与效率的关键技术;简单介绍了薄膜图形缺陷激光修补机的系统构成及其技术与性能指标。
关键词：激光化学气相沉积(LCVD) 金属薄膜 快速成膜 激光快速去除(ZAP) 设备参数 
激光化学气相沉积石墨烯的基底温度场仿真被引量：4
《激光技术》2015年第5期648-653,共6页陈永庆 张陈涛 张建寰 
教育部留学回国人员科研启动基金资助项目;福建省新世纪优秀人才支持计划资助项目
为了分析激光化学气相沉积制备石墨烯过程中催化剂基底的静态和动态温度场分布与各个实验参量之间的关系,采用基于ANSYS软件建立有限元分析模型和加载532nm激光热源模型的方法,取得了不同实验参量影响下基底温度场分布和达到反应温度所...
关键词：激光技术 温度场 仿真 基底 石墨烯 
激光化学气相沉积快速生长高取向TiN_x薄膜的研究被引量：5
《无机材料学报》2010年第4期391-395,共5页公衍生 涂溶 後藤孝 
中央高校基本科研业务费专项基金
采用激光化学气相沉积(LCVD)技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiNx薄膜,重点研究了激光功率(PL)、衬底预热温度(Tpre)和沉积总压力(Ptot)对薄膜取向和沉积速率的影响,采用X射线衍射(XRD)、俄歇能谱(AES)和场发射扫描电镜(FESEM)对薄膜...
关键词：TiNx薄膜 快速生长 取向 激光化学气相沉积(LCVD) 
激光化学气相沉积(连载之三)
《金属热处理》2007年第8期105-113,共9页张魁武 
本讲座介绍了激光化学气相沉积的基本原理,较详细地讲述了制备金属薄膜、金刚石薄膜、类金刚石薄膜、氢化非晶硅薄膜、化合物半导体薄膜及绝缘体薄膜等所用的激光器、工艺参数以及薄膜的性能。
关键词：激光化学气相沉积 激光诱导 激光辅助 光解激光 热解激光 光热共解激光 
全选清除导出
共3页<123>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部