纳米多孔二氧化硅薄膜的制备及其光学性质研究  

Preparation of nanoporous silica film and research on its optical properties

作　　者：王娟[1] 张长瑞[1] 冯坚[1] 

机构地区：[1]国防科技大学航天与材料工程学院新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室,长沙,410073

出　　处：《高技术通讯》2005年第6期55-57,共3页Chinese High Technology Letters

基　　金：武器装备预研基金

摘　　要：以正硅酸乙酯(TEOS)为先驱体,采用溶胶-凝胶法,结合旋转涂胶和超临界干燥等工艺,在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜.XRD和AFM表明该SiO2薄膜为无定形态,具有多孔网络结构,表面均匀平整,其SiO2基本粒子和孔隙的直径为30～40nm.利用椭偏光谱仪测量了SiO2薄膜在波长245～1650nm的椭偏光谱,采用Si/cauchy/rough结构模型对该光谱进行了拟合,获得了SiO2薄膜的厚度和光学常数.SiO2薄膜的厚度为500～1100nm;折射率为1.13～1.21;孔隙率为56%～70%;介电常数为1.9～2.3.

关 键 词：纳米多孔二氧化硅薄膜 制备方法 光学性质 溶胶-凝胶 低介电常数 椭偏光谱 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]