无显影气相光刻在大功率晶闸管元件生产中的应用  

The Application of the DFVP to the Power Thyristor Manufacture

作　　者：王培清[1] 卢建平[1] 陈永麒[1] 

机构地区：[1]清华大学

出　　处：《电力电子技术》1995年第2期68-70,共3页Power Electronics

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：由于无显影气相光刻（ＤＦＶＰ）具有分辨率高、针孔密度低、光刻流程短、设备简单、成本低等优点，因此将其应用于晶闸管元件的生产具有非常重要的实际意义．本文在系统地研究ＤＦＶＰ机理的基础上，提出了新的配方，解决了刻蚀厚二氧化硅（ＳｉＯ２）层的关键技术问题。

关 键 词：晶闸管 光刻 氧化层 无显影气相光刻 

分 类 号：TN34[电子电信—物理电子学]