电子束刻蚀超导膜的实验研究  

EXPERIMENTAL STUDIES OF ELECTRON BEAM SCULPTURE FOR SUPERCONDUCTING FILMS

作　　者：林世昌[1] 张燕生[1] 柴璋 李碧钦 

机构地区：[1]中国科学院电子学研究所,北京100080 [2]中国科技大学研究生院,北京100039

出　　处：《电子科学学刊》1995年第5期553-556,共4页

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：本文论述了扫描电子束对YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导膜进行干法刻蚀的实验研究;试验了电子束工艺参数对刻蚀效果的影响;初步讨论了超导膜改性的机制。扫描电子束能使被刻蚀的超导膜局部改性为非超导膜,将为干法制备超导器件提供一个有效的方法。A dry sculpture experiment for YBa2Cu3O7-δ superconducting film using scanning electron beam is presented. The effects of beam technological parameters on sculpture result are tested. The modification mechanism for superconducting films is discussed prelimiarily.

关 键 词：超导膜 刻蚀 材料改性 扫描电子束 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]