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机构地区:[1]西安交通大学微电子研究室
出 处:《电子器件》1995年第1期36-45,共10页Chinese Journal of Electron Devices
摘 要:本文较系统和全面地总结了GaA_s和Al_xGa_(1-x)As材料的物理参数模型,包括介电常数、能带参数、载流子迁移率以及复合机制和寿命等,给出了易于应用的数学公式,其中Al_xGa_(1-x)A_s重掺杂能带窄变公式为本文首次推导。这些物理参数模型对于Al_xGa_(1-x)As/GaAs异质结器件的研究有着十分重要的意义。The physical-paramcter models of Al_xGa_(1-x)As materials,including static and high-frequency dielectric constants,bandstructure porameters,carrier mobilities and recombinationmechanisms and lifetimes,have been discussed in detail and systematically in this paper,in whichthe formula on the bandgap narrowing in heavily doped Al_xGa_(1-x)As was deduced for the first time.These models are very significant for the research on the Al_xGa_(1-x)As/GaAs heterostructure devices.
关 键 词:ALXGA1-XAS 砷化镓 物理 参数 模型
分 类 号:TN304.07[电子电信—物理电子学]
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