等离子体源离子注入鞘层时空演化的研究  

NUMERICAL SIMULATION OF COLLISIONAL SHEATH EVOLUTION IN PLASMA SOURCE ION IMPLANTATION

作　　者：于炯[1] 宫野[1] 王德真 

机构地区：[1]大连理工大学物理系

出　　处：《核聚变与等离子体物理》1995年第4期8-13,共6页Nuclear Fusion and Plasma Physics

基　　金：国家自然科学基金;国家"863"高科技青年基金

摘　　要：本文使用流体动力学模型，研究了平板、柱形和球形靶的无碰撞及碰撞等离子体鞘层的时空演化，得到了鞘层边界演化、靶表面的离子注入电流密度和离子注入平均动能等参量。The effects of ion collisions on plasma sheath are important in the case of a high pressure neutral gas. Evolution of the collisional sheath for different target geometries has been numerically simulated using a collisional fluid dynamic model. In addition to the sheath expansion, the ion implantation kinetic energy and the ion current density are obtained.

关 键 词：等离子体源 离子注入 鞘层 数值计算 

分 类 号：TL612.3[核科学技术—核技术及应用] TL629.1