CO_2激光CVD制备纳米硅粉  

Nanosized Silicon Powders Produced by CO_2 Laser induced Chemical Vapor Deposition

作　　者：王卫乡[1] 刘颂豪[1] 张有[1] 梅宴标[1] 廖健宏[1] 陈强[1] 陈可心[1] 

机构地区：[1]中国科学院国际材料物理中心,华南师范大学量子电子学研究所

出　　处：《激光与红外》1995年第2期27-31,共5页Laser & Infrared

基　　金：广东省高教局重点学科和广东省自然科学基金

摘　　要：本文分析了激光诱导化学气相沉积制备纳米材料的基本原理，获得了适宜的制备工艺参数，制得了三种粒径的硅粉样品（１５ｕｍ，２５ｕｍ，８０ｕｍ）。讨论了制备工艺参数与粉末特征的关系。

关 键 词：激光 化学气相沉积 硅 二氧化碳 

分 类 号：TN304.12[电子电信—物理电子学] O48[理学—固体物理]