对向靶溅射氮化铁梯度薄膜  

作　　者：姜恩永[1] 林川[1] 刘裕光[1] 孙多春[2] 田民波[2] 

机构地区：[1]天津大学应用物理学系,天津300072 [2]清华大学材料科学与工程系,北京100084

出　　处：《科学通报》1995年第9期851-854,共4页Chinese Science Bulletin

基　　金：国家自然科学基金资助项目

摘　　要：氮化铁薄膜具有优异的磁性能,同时又具有良好的耐腐蚀性,是一种优异的高密度磁记录磁头材料.目前已广泛确认的氮化铁系化合物共有4相,分别是α″-Fe_(16)N_2,γ′-Fe_4N,ε-Fe_xN(2≤x≤3)和ζ-Fe_2N.它们的磁矩和Curie温度随含氮量的增加而降低.Fe_(16)N_2在已发现的磁性材料中具有最高饱和磁通密度(2.8～3.0T),Fe_4N和Fe_xN(2≤x≤3)则分别为1.7和1.4T,Fe_2N在常温下为非磁性.铁氮化合物随着含氮量的增高,耐腐蚀性越来越好.

关 键 词：对向靶溅射 氮化铁 薄膜 梯度薄膜 磁性 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]