LSI版图曝光单元集的算法  

ALGORITHM FOR EXPOSURE UNIT SET OF LSI RETICLE FIGURE

作　　者：王绍钧[1] 

机构地区：[1]山东工业大学自动化工程系

出　　处：《微细加工技术》1995年第1期1-6,共6页Microfabrication Technology

摘　　要：本文给出划分一种ＬＳＩ版图设计图形为曝光单元集的一个算法。该算法可同时获正、反两种曝光单元集，为曝光方式的选择提供了灵活性。The glgorithm qor partitioning LSI reticle figure into exposure unit set is given,It can get both positive and negative exposure unit sets, so that,the exposure method can be agilly selected.

关 键 词：算法 电子束曝光 集成电路 LSI 版图 

分 类 号：TN470.598[电子电信—微电子学与固体电子学]