王绍钧

作品数：11被引量：8H指数：1
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供职机构：山东工业大学电力工程学院自动化系更多>>
发文主题：电子束曝光集成电路版图电子束电子束曝光机更多>>
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发文期刊：《计算机应用研究》《微细加工技术》《科学通报》更多>>
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LSIC版图扫描场分割方式的研究被引量：1
《微细加工技术》1999年第4期10-13,共4页胡咏梅 胡毅 贾春娟 王绍钧 
对版图扫描场分割方式进行了研究，详细论述了ｍ ×ｎ Ｓ形扫描场分割方式和任意扫描场分割方式。
关键词：版图 扫描场 电子束曝 LSIC 集成电路 
LSIC凸多边形版图场分割数据处理的一种方法被引量：3
《微细加工技术》1998年第3期7-14,共8页胡咏梅 陈振生 姚作宾 王绍钧 
本文介绍了一种凸多边形版图场分割数据处理的方法 ,详细分析了凸多边形场分割数据处理的算法。
关键词：版图 图形场分割处理 LSIC 电子束曝光机 
电磁场校正的子域变换和畸变速率补偿法
《微细加工技术》1996年第2期1-6,共6页胡咏梅 姚作宾 王绍钧 
应用子域变换导出场的畸变函数，并给出畸变速率补偿法，以提高校正函数的逼近程度。
关键词：电磁场校正 电子束曝光 区域变换 畸变速率补偿 
电子束偏放电路的计算机辅助设计被引量：1
《微细加工技术》1996年第1期17-22,共6页姚作宾 高文洪 王绍钧 
本文介绍了应用现行的ＰＳＰＩＣＥＶ５．０软件和ＣＡＤ优化技术，对亚微米电子束曝光机高速偏放电路的ＶＭＯＳＦＥＴ参数进行处理。针对电路中的关键参数：导通电阻、开关速度、温度影响、灵敏度及噪声干扰进行分析、设计。
关键词：电子束曝光机 VMOSFET CAD 功率放大器 
光刻单元集的切割重组选择算法被引量：1
《计算机应用研究》1995年第4期51-52,共2页王绍钧 杨立才 
本文给出一个效率较高的算法。该算法，通过对ＶＬＳＩ设计图形的切割、重组和选择，建立光刻图形的单元图形集合──光该单元集。
关键词：集成电路 VLSI 光刻 切割 算法 微细加工 
一个校正函数的补偿
《微细加工技术》1995年第2期1-5,共5页王绍钧 
本文利用畸变函数的偏导数对文献［１］中给出的校正函数进行补偿，使其具有更高的精度。
关键词：像差畸变 电子束曝光 校正函数 补偿 
LSI版图曝光单元集的算法被引量：1
《微细加工技术》1995年第1期1-6,共6页王绍钧 
本文给出划分一种ＬＳＩ版图设计图形为曝光单元集的一个算法。该算法可同时获正、反两种曝光单元集，为曝光方式的选择提供了灵活性。
关键词：算法 电子束曝光 集成电路 LSI 版图 
二维场的一个校正函数被引量：1
《科学通报》1994年第23期2195-2198,共4页王绍钧 
由数字-模拟系统控制的二维偏转场的畸变校正,是束(电子束、光子束等)微细加工的重要技术,其关键问题是如烘给出一个近似的校正函数,一般文献中多采用整式函数.实际的偏转场,不仅存在几烘象差引起的畸变、偏转系统的不对称性等原因,会...
关键词：微细加工 二维场 校正函数 数字-模拟系统 
像差畸变及预校正映射被引量：1
《微细加工技术》1994年第3期1-5,共5页王绍钧 
本文根据磁偏转场畸变的物理原因，分析构造畸变及校正的映射函授，并给出校正电路的运算公式及公式的精度分析。
关键词：电子束曝光 像差畸变 预校正 映射 
一种平面区域的剖分被引量：1
《微细加工技术》1994年第2期9-15,共7页王绍钧 
本文提出一种图形剖分算法，可将任意条折线围成的平面区域，划分为一个互相不交的子域的集合。这种子域是ＬＳＩ掩模版加工设备可加工的。由此，ＬＳＩ掩模版图的设计，可避免受到加工设备的限制，使图样不论如何复杂，可以根据电路需...
关键词：集成电路 版图图样 设计 平面区域 
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