计算机光学元件的制作及新应用  

Fabrication and New Application of Computer Optical Elements

作　　者：邹凯[1,2] 杜诗研[2] 李慎[2] 

机构地区：[1]泸州医学院物理教研室,泸州646000 [2]电子科技大学物理电子学院

出　　处：《激光与光电子学进展》2005年第10期27-31,8,共6页Laser & Optoelectronics Progress

摘　　要：论述计算机光学元件制作的方法,着重介绍了灰度掩模技术,反应离子束刻蚀法和激光直写技术,并且说明了其在空间聚焦器上和激光雷达上的新应用。The means of fabricating computer optical element （COE） are discussed. The new developments of graylevel mask,reactive ion beam etching and laser direct-writing in fabricating process are emphasized, and the application of COE in the space-focusing implement and lidar are introduced.

关 键 词：计算机光学元件 灰度掩摸 刻蚀法 激光直写 光学元件 计算机 应用 制作 掩模技术 激光雷达 

分 类 号：TN4[电子电信—微电子学与固体电子学] TH74[机械工程—光学工程]