纳米压印光刻技术及其发展现状  

Nano-imprint Technology and Its Present Development

作　　者：李洪珠[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第45研究所上海微高精密机械工程有限公司,上海200233

出　　处：《电子与封装》2005年第12期1-5,共5页Electronics & Packaging

摘　　要：文章详细介绍了有望成为下一代主流的光刻技术——纳米压印光刻技术。并概述了其应用, 同时介绍了其在现阶段的发展状况。This paper detailedly introduced Nano-imprint technology which is hopeful becoming the next generation lithography technology. And its application and present development status are also summarized.

关 键 词：压印光刻 发展状况 

分 类 号：TN305.17[电子电信—物理电子学]