李洪珠

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纳米压印光刻技术及其发展现状
《纳米科技》2012年第3期80-81,共2页李洪珠 
纳米压印光刻技术的研究始于普林斯顿大学纳米结构实验室Stephen Y．Chou教授，是将一具有纳米图案的模版以机械力（高温、高压）在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制纳米图案，其加工分辨力只与模版图案的尺寸有关，而不受光学...
关键词：光刻技术 纳米压印 纳米图案 普林斯顿大学 光学光刻 高分子材料 微光学元件 掩模版 
纳米压印光刻技术及其发展现状被引量：2
《电子与封装》2005年第12期1-5,共5页李洪珠 
文章详细介绍了有望成为下一代主流的光刻技术——纳米压印光刻技术。并概述了其应用, 同时介绍了其在现阶段的发展状况。
关键词：压印光刻 发展状况 
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