氮化铁薄膜的结构及磁性研究  

Structure and magnetic properties of iron nitride thin films

作　　者：王丽丽[1] 毕冬梅[1] 宫杰[1] 宗占国[1] 

机构地区：[1]长春大学应用物理研究所,吉林长春130022

出　　处：《长春大学学报》2005年第6期46-47,共2页Journal of Changchun University

基　　金：吉林省科技厅科研项目(20050415-2)

摘　　要：采用直流磁控溅射方法,以Ar/N2作为放电气体在玻璃基片上沉积了单相γ-′Fe4N薄膜,采用X射线衍射(XRD)和超导量子干涉仪(SQUID)对所制备的样品进行了结构和磁性性能分析,研究了基片温度对薄膜的结构和磁性性能的影响。The single- phase γ-Fe4N thin films are deposited on glass substrates by DC magnetmn sputtering using an Ar/N2 gas mixture. The structure and magnetic properties of the films are characterized using X- ray diffraction （XRD） and superconducting quantum interference device （SQUID）. The effects of substrate temperature on the structures and magnetic properties of the thin films are investigated.

关 键 词：基片温度 FE-N薄膜 结构 磁性 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]