FE-N薄膜

作品数：21被引量：20H指数：2
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不同基片生长γ′-Fe_4N薄膜的结构及其磁学性能
《吉林大学学报（理学版）》2019年第1期156-159,共4页刘伟达 陈蕊 王丽丽 李宏广 安涛 张东辉 徐士翀 
国家自然科学基金(批准号:51302019);吉林省科技厅优秀青年基金(批准号:20180520222JH);吉林省产业技术研究与开发项目(批准号:2018C043-3;2017C052-3);吉林省教育厅"十三五"科学技术研究项目(批准号:JJKH20191195KJ)
采用直流磁控溅射方法,保持氩气流量不变,控制氮气的体积分数为10%,12.5%,15%,分别用Si(100)单晶和SrTiO_3(100)单晶基片制备Fe-N薄膜.用X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)等方法对两种不同基片生长Fe-N薄膜的结构及磁学性能进行表征...
关键词：FE-N薄膜 基片 微观结构 磁学性能 
偏压对直流磁控溅射Fe-N薄膜结构及性能的影响被引量：1
《材料科学与工艺》2008年第6期773-775,780,共4页李伟力 郑晓航 周庚衡 薛宗伟 
为了揭示偏压对溅射态Fe-N薄膜磁学行为的影响规律及机理,采用直流磁控溅射工艺在不同偏压下制备了Fe-N薄膜.利用掠入射X射线衍射、小角X射线散射技术和振动样品磁强计研究了薄膜的相结构、厚度、表面粗糙度以及磁性能.结果表明,增加偏...
关键词：FE-N薄膜 偏压 膜厚 表面粗糙度 磁性能 
γ′-Fe_4N薄膜的制备及其磁性被引量：2
《吉林大学学报（理学版）》2007年第2期275-278,共4页王丽丽 支文 赵利军 王欣 马楠 金丹红 郑伟涛 
国家自然科学基金(批准号:50525204)
采用直流磁控溅射方法,以Ar/N2为放电气体(N2/(Ar+N2)=10%),在玻璃和NaCl(100)单晶片上分别沉积获得Fe-N薄膜样品.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和超导量子干涉仪(SQUID)对样品的结构、形貌和磁性能进行分析,研究基片和基片温...
关键词：FE-N薄膜 结构 磁性 
衬底温度对Fe-N薄膜结构、形貌及磁性能的影响
《中国有色金属学报》2005年第11期1838-1842,共5页王丽丽 王欣 宫杰 郑伟涛 宗占国 
采用直流磁控溅射方法,以Ar和N2作为放电气体,在单晶Si(100)衬底上沉积了Fe-N薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱分析仪(XPS)、原子力显微镜(AFM)和超导量子干涉仪(SQUIDS)对所制备的样品进行了结构、成分、形貌和磁性能分析...
关键词：FE-N薄膜 衬底温度 磁性能 
射频磁控溅射高饱和磁化强度Fe-N薄膜被引量：1
《天津大学学报（自然科学与工程技术版）》2005年第7期573-576,共4页姜恩永 陈逸飞 李志青 白海力 
国家自然科学基金资助项目(50072015);教育部专项研究博士点基金资助项目(20020056018).
用射频磁控溅射法分别在具有20nmFe衬底的Si(100)和NaCl单晶基片上成功地制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.用X射线衍射仪、透射电子显微镜和振动样品磁强计研究了氮气分压和基片温度对Fe-N薄膜相结构和磁性的影响.结果表明,当氮气...
关键词：FE-N薄膜 饱和磁化强度 射频磁控溅射 
氮化铁薄膜的结构及磁性研究被引量：2
《长春大学学报》2005年第6期46-47,共2页王丽丽 毕冬梅 宫杰 宗占国 
吉林省科技厅科研项目(20050415-2)
采用直流磁控溅射方法,以Ar/N2作为放电气体在玻璃基片上沉积了单相γ-′Fe4N薄膜,采用X射线衍射(XRD)和超导量子干涉仪(SQUID)对所制备的样品进行了结构和磁性性能分析,研究了基片温度对薄膜的结构和磁性性能的影响。
关键词：基片温度 FE-N薄膜 结构 磁性 
降低适用于高密记录写入磁头的Fe-N薄膜矫顽力的研究
《人工晶体学报》2004年第2期159-163,共5页李丹 张静 雷牧云 田中卓 潘峰 
国家自然科学基金(No.19890310)资助项目
用RF磁控溅射方法,在高功率下制备厚度为2μm的薄膜,当N含量在5.9～8.5%原子分数范围内,形成α′+α″相时,4πMs=2.2T,Hc=58.6A/m,可以满足针对高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要。用该方法在不同的本底真空度下制备...
关键词：FE-N薄膜 矫顽力 磁头 RF磁控溅射 磁记录密度 磁记录介质 
2μm厚Fe—N薄膜矫顽力的研究
《金属材料研究》2002年第4期29-32,共4页周剑平 顾有松 等 
本文研究了RF磁控溅射法制备的Fe-N薄膜，经过250℃场热处理后，厚度为2μm薄膜的矫顽力随溅射功率变化的规律。实验发现，高功率可以减少薄膜中杂质元素的相对含量，降低矫顽力（小于80A／m），饱和磁化强度大于2．2T，这种材料可满足...
关键词：FE-N薄膜 矫顽力 磁场热处理 磁记录介质 
Fe-N薄膜的时效研究
《金属功能材料》2002年第6期24-25,共2页赵慈 许英华 吴萍 姜恩永 
国家自然科学基金资助项目 (5 0 0 72 0 15 )
本文利用对向靶反应溅射法制备Fe N膜 ,本底真空度为 6× 10 -4 Pa,溅射功率为 16 0W ,基底温度约为180℃ ,再经 180℃退火处理。所得样品的结构由X射线衍射分析 (XRD)得到 ,并对Fe N膜时效性进行了跟踪实验。结果表明 ,制备的Fe N膜在...
关键词：铁氮薄膜 时效研究 相分析 
磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究
《电子显微学报》2002年第5期645-646,共2页詹倩 贺连龙 李斗星 
国家自然科学基金资助项目 (No .5 0 0 710 63 )
关键词：磁控溅射 FE-N薄膜 微结构 磁学性能 晶粒尺寸 厚度 透射电镜 磁头 
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