磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究  

Studies of microstructure in Fe-N thin films prepared by magnetron sputtering

作　　者：詹倩[1] 贺连龙[1] 李斗星[1] 

机构地区：[1]中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,辽宁沈阳110016

出　　处：《电子显微学报》2002年第5期645-646,共2页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

基　　金：国家自然科学基金资助项目 (No .5 0 0 710 63 )

关 键 词：磁控溅射 FE-N薄膜 微结构 磁学性能 晶粒尺寸 厚度 透射电镜 磁头 

分 类 号：TN304.066[电子电信—物理电子学]