离心旋转喷雾式清洗技术  

Centrifugal Spray Cleaning Technology

出　　处：《半导体技术》2006年第3期I0001-I0004,共4页Semiconductor Technology

摘　　要：应用．前段光刻胶去除和灰化后清洗．自对准多晶硅化物去除．后段灰化后清洗．凸块制程中．

关 键 词：清洗技术 喷雾式 旋转 离心 硅化物 自对准 光刻胶 灰化 去除 晶圆 

分 类 号：TN305.3[电子电信—物理电子学] TB4[一般工业技术]