磁控溅射制备参数对ZnO∶Al光学性能的影响  

The Effect of Magnetron Sputtering Growth Parameters on Optical Properties of ZAO

作　　者：殷胜东[1] 马勇[1] 殷霖[1] 

机构地区：[1]重庆师范大学物理学和信息技术学院,重庆400047

出　　处：《云南民族大学学报（自然科学版）》2006年第2期126-129,共4页Journal of Yunnan Minzu University:Natural Sciences Edition

基　　金：重庆市教委基金项目(040810)

摘　　要：ZnO∶A l(ZAO)透明导电薄膜是一种n型半导体,有高的载离子浓度和大的光学禁带宽度,具有优异的电学和光学性能,有极广的应用前景.着重分析了磁控溅射制备参数对光学性能的影响.Transparent conductive ZnO： Al（ZAO） thin films are semi-conductor oxides with both high carrier concentration and large optical band gap. ZAO films have outstooding electrical and optical properties, and axe emerging as a most potential alternative candidate for transparent conducting material. The effect of growth parameters on the optical properties are mostly analysed.

关 键 词：ZAO薄膜 光学性能 磁控溅射 

分 类 号：O484[理学—固体物理]