FSI发布全新用于无灰化、湿法光刻胶去除ViPR^TM工艺技术  

机构地区：[1]《电子与封装》通讯员

出　　处：《电子与封装》2006年第4期48-48,共1页Electronics & Packaging

摘　　要：2006年3月20日，FSI国际有限公司向全球发布全新的ViPR^TM技术。这项创新技术省去了绝大多数已注入光刻胶去除所需的灰化工艺步骤，包括1×10^7离子／厘米。等离子掺杂（PLAD）光刻胶．这项ViPR技术适用于FSI全新的ZETA G3喷雾清洗平台。

关 键 词：工艺技术 FSI 光刻胶 灰化 去除 湿法 离子掺杂 有限公司 工艺步骤 创新技术 

分 类 号：TQ575.21[化学工程—精细化工]