电子束曝光技术及其应用综述  

Technologies and Applications of Electron Beam Exposure

作　　者：王振宇[1] 成立[2] 祝俊[2] 李岚[2] 

机构地区：[1]江苏大学应用科学技术学院,江苏镇江212013 [2]江苏大学电气信息工程学院,江苏镇江212013

出　　处：《半导体技术》2006年第6期418-422,428,共6页Semiconductor Technology

基　　金：江苏大学高级人才启动项目(1283000149);江苏省高校自然科学研究基金项目(04KJB310171)

摘　　要：综述了几种目前已得到应用和正在发展中的电子束曝光技术,包括基于扫描电镜(SEM)电子束、高斯电子束、成型电子束和投影电子束曝光技术等,并分析比较了这些技术各自的特点、应用及发展前景。Several e-beam exposure technologies are described, which are recently used and being developed, such as scanning electron microscope, gauss electron beam lithograph, molding beam and projection beam lithograph, etc. Applications and prospects of those technologies are also compared and analyzed.

关 键 词：电子束曝光 微细加工 光刻 纳米加工 

分 类 号：TN407[电子电信—微电子学与固体电子学]