纳米级研磨技术及发展动向  

Technology of a Nanometer Level Grinds and Its Development Trend

作　　者：曹志锡[1] 邓乾发[1] 楼飞燕[1] 袁巨龙[1] 

机构地区：[1]浙江工业大学,310014

出　　处：《新技术新工艺》2006年第5期10-13,共4页New Technology & New Process

基　　金：国家自然科学基金重点项目(50535040)资助

摘　　要：概述了最近纳米级研磨技术的研究动态,同时介绍了研磨技术的原理、应用和优势,结合该方向的最新研究成果提出其近期的研究发展方向。The current states of nanometer lapping technology are introduced. The principle, application and advantage of lapping technology are described. The development trend of lapping technology is indicated.

关 键 词：纳米级 研磨技术 发展动向 

分 类 号：TG749[金属学及工艺—刀具与模具]