楼飞燕

作品数：9被引量：13H指数：2
导出分析报告
供职机构：浙江工业大学更多>>
发文主题：抛光液化学机械抛光CMP激光诱导荧光荧光强度更多>>
发文领域：金属学及工艺电子电信理学机械工程更多>>
发文期刊：《中国机械工程》《新技术新工艺》《航空精密制造技术》《机械工程师》更多>>
所获基金：浙江省自然科学基金国家自然科学基金浙江省科技厅科技计划项目浙江省科技厅重点资助项目更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-9
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
后锥角对串联空化腔室的空化特性的数值研究被引量：1
《机电工程》2017年第10期1090-1094,共5页戴勇 叶见领 葛满 楼飞燕 
国家自然科学基金资助项目(51405422);浙江省自然科学基金资助项目(LQ13050011);浙江省科学技术厅公益技术研究工业项目(2014C31104)
针对串联式空化腔室的空化强度和效率存在的问题,展开了对其影响较大的后锥角β值的数值研究,为今后的空化腔室设计提供理论依据。采用Mixture多相流模型,以及k-?两方程湍流模型,在Fluent软件中仿真模拟后锥角β值连续变化的多种串联空...
关键词：串联空化腔室 空化现象 空泡体积 后锥角 
半固着磨具特性对其磨耗和工件材料去除的影响(英文)被引量：1
《纳米技术与精密工程》2012年第1期89-94,共6页邓乾发 袁巨龙 吕冰海 楼飞燕 杭伟 王志伟 
国家自然科学基金重点资助项目(50535040);浙江省自然科学基金资助项目(Y1101085);浙江工业大学科研启动基金资助项目(56710203009)
为获得先进陶瓷材料的高效、高精度加工,通过采用新研制的半固着磨具来实现一种半固着磨粒加工技术.制作了以SiC为磨料的不同粒度和磨料浓度的半固着磨具(SFAT),讨论分析了磨料粒度和磨料浓度对半固着磨具特性(剪切强度和表面硬度等)的...
关键词：半固着磨具(SFAT) 材料去除率 磨耗率 
CMP抛光液流场数值仿真
《中国机械工程》2009年第10期1207-1212,共6页周兆忠 楼飞燕 吕冰海 袁巨龙 
国家自然科学基金资助项目(50475119;50535054);浙江省自然科学基金资助项目(Y104494;Y106590)
建立了一种基于流体动力学的化学机械抛光模型,利用流体动力学方法推导了抛光液流场的雷诺方程,并通过计算机求解偏微分方程,对抛光过程中晶片和抛光垫之间的抛光液液体薄膜厚度以及液体薄膜压力分布进行了仿真计算。分析了液膜厚度、...
关键词：化学机械抛光 抛光液膜 流场 数值模拟 
CMP加工过程中加工载荷对液膜厚度的影响分析
《航空精密制造技术》2009年第1期17-19,共3页郁炜 吕迅 楼飞燕 
本文采用激光诱导荧光技术(LIF)来研究抛光参数对化学机械抛光加工区液膜厚度的影响。研究表明,抛光液膜厚度随着抛光载荷的增加而减少,减小的趋势随抛光载荷的提高而减缓。同时液膜厚度随着抛光速度的增加而变大。通过抛光参数的变化...
关键词：化学机械抛光 液膜厚度 抛光载荷 激光诱导荧光 
CMP加工过程中抛光速度对液膜厚度的影响分析被引量：2
《轻工机械》2008年第6期97-99,共3页郁炜 吕迅 楼飞燕 
浙江省自然科学基金(Y104241)
化学机械抛光过程中抛光工艺参数对抛光液的流动特性有重要影响。采用LIF技术实验研究抛光参数对抛光液液膜厚度的影响。研究表明,抛光液膜厚度随着抛光速度的增加而增加,增加的趋势随抛光转速的提高而减缓。同时液膜厚度随着抛光压力...
关键词：化学机械抛光 液膜厚度 抛光速度 激光诱导荧光 
CMP加工过程中晶片形状对抛光液流动特性的影响被引量：1
《轻工机械》2008年第5期93-95,共3页郁炜 吕迅 楼飞燕 
浙江省自然科学基金(Y104241)
化学机械抛光过程中抛光液的流动特性取决于被抛光晶片的形状和抛光参数。采用LIF技术来实验研究晶片形状及抛光参数对抛光液液膜厚度的影响。研究表明,凸面晶片与抛光垫摩擦过程中,抛光液膜厚度随着抛光盘转速的增加而增加,随着下压力...
关键词：化学机械抛光 流动特性 激光诱导荧光 
基于激光诱导荧光技术的化学机械抛光机理的应用研究被引量：2
《新技术新工艺》2008年第4期53-57,共5页楼飞燕 赵萍 郑晓锋 袁巨龙 周兆忠 
国家自然科学基金(50475119);浙江省自然科学基金(Y104241;Y104494;Y106590)
虽然化学机械抛光(CMP)技术在半导体产业中得到越来越广泛的应用,但人们对化学机械抛光加工的理解还多半停留在经验阶段,为深入研究其加工机理,引入了激光诱导荧光(LIF)检测技术,在化学机械抛光(CMP)过程中使用LIF技术对晶片下抛光液的...
关键词：化学机械抛光(CMP) 激光诱导荧光(LIF) 荧光强度 
纳米级研磨技术及发展动向被引量：2
《新技术新工艺》2006年第5期10-13,共4页曹志锡 邓乾发 楼飞燕 袁巨龙 
国家自然科学基金重点项目(50535040)资助
概述了最近纳米级研磨技术的研究动态,同时介绍了研磨技术的原理、应用和优势,结合该方向的最新研究成果提出其近期的研究发展方向。
关键词：纳米级 研磨技术 发展动向 
陶瓷球研磨成型机理的研究被引量：4
《机械工程师》2003年第9期47-50,共4页常敏 吕冰海 王志伟 楼飞燕 袁巨龙 
浙江省青年科技人才培养专项资金项目(RC02066);浙江省科技厅计划项目(2003C31057)
讨论了陶瓷球的成球机理,分析了一种新的研磨加工方法,即采用三块能够独立选择的研磨盘,通过控制研磨盘的转速,调整自旋转角的大小,可在较大的范围内取值,同时对计算机仿真和实验的结果进行了对比。结果表明:该方法结合化学机械抛光(CMP...
关键词：陶瓷球 成球机理 去除效率 研磨轨迹 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部