APCVD法沉积温度对TiO_2薄膜结构的影响  

Effects of Deposition Temperature on the Structure of TiO_2 Films by APCVD

作　　者：庞世红[1] 王承遇[1] 李西平[2] 刘静维[2] 唐艳玲 

机构地区：[1]大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所,大连116034 [2]秦皇岛耀华玻璃股份有限公司,秦皇岛066013 [3]秦皇岛冶金设计研究总院,秦皇岛066013

出　　处：《材料导报》2006年第F05期82-84,共3页Materials Reports

基　　金：国家高技术研究发展计划(863计划)项目(2001AA322030)

摘　　要：利用APCVD方法在浮法玻璃表面沉积了TiO2薄膜,并用XRD和AFM分别研究了不同沉积温度下薄膜的晶型结构以及表面形貌。结果表明,随着沉积温度的升高,薄膜的晶型逐渐由无定形态转变为锐钛矿和金红石,薄膜的表面平均粗糙度逐渐变大。The film is deposited by APCVD in this paper. Crystal phase and surface structure of the TiO2 film deposited at different temperature are analyzed by XRD and AFM. It is found that the film crystal phase transits from non-crystal to anatase phase, then to futile phase, at the same time the film average roughness becomes rougher with depositing temperature raising.

关 键 词：APCVD TIO2 晶型转变 浮法玻璃 

分 类 号：TQ171[化学工程—玻璃工业]