在塑料基底上低温沉积ITO透明导电膜  

ITO THIN FILM DEPOSITION ON POLYALKYLMETHACRYLATE SUBSTRATE

作　　者：程珊华[1] 李育峰[1] 宁兆元[1] 

机构地区：[1]苏州大学薄膜材料实验室

出　　处：《苏州大学学报（自然科学版）》1996年第3期34-36,共3页Journal of Soochow University(Natural Science Edition)

摘　　要：本文叙述了使用等离子体辅助反应蒸发法在有机玻璃基底上制备透明导电ITO膜的研究结果。成功地在室温的条件下,制备出了高透明的、满足防静电要求的产品。In this paper the deposition of ITO films on the polyalkylmethacrylate substrates prepared at fhe room temperature by the plasma aided reactive vaporing has been investigated.

关 键 词：等离子体 氧化铟锡 导电膜 塑料基底 反应蒸发法 

分 类 号：TB43[一般工业技术] O484.1[理学—固体物理]