Micronic革新图形技术与客户双赢  

作　　者：钱敏 

出　　处：《集成电路应用》2006年第10期14-14,共1页Application of IC

摘　　要：光刻胶、掩膜版和光刻机一直以来是构成光刻的三要素．掩膜版的技术水平直接影响着半导体光刻技术的发展．而目前几乎所有平板显示器的制造过程也必须用到光掩膜。Micronic Laser Systems AB正是提供TFT-LCD．半导体和先进电子封装制造中掩膜版生产工具．激光图形发生器的公司。

关 键 词：图形技术 SYSTEMS 激光图形发生器 TFT-LCD 客户 革新 制造过程 平板显示器 

分 类 号：TN21[电子电信—物理电子学]