激光图形发生器

作品数：10被引量：3H指数：1
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5009激光图形发生器曝光实验
《微处理机》2014年第6期12-13,共2页蒋玉贺 
激光图形发生器是一种用于图形转化的硬件接口设备,直接影响着掩膜版的加工质量。激光图形发生器曝光过程中出现的曝光偏移、曝光遗漏问题,严重影响了掩膜版加工的质量和成品率。通过实验和分析,总结了产生曝光偏移、曝光遗漏的一些原因。
关键词：激光图形发生器 掩膜版 曝光 
Micronic革新图形技术与客户双赢
《集成电路应用》2006年第10期14-14,共1页钱敏 
光刻胶、掩膜版和光刻机一直以来是构成光刻的三要素．掩膜版的技术水平直接影响着半导体光刻技术的发展．而目前几乎所有平板显示器的制造过程也必须用到光掩膜。Micronic Laser Systems AB正是提供TFT-LCD．半导体和先进电子封装制造...
关键词：图形技术 SYSTEMS 激光图形发生器 TFT-LCD 客户 革新 制造过程 平板显示器 
离焦写入线宽的动态高斯模型被引量：2
《光学学报》2006年第5期726-729,共4页梁宜勇 
为提高集成光学器件中的多线宽制作效率,提出了基于激光直接写入技术的离焦加工模式,即加工时激光束的聚焦点不落在胶层表面而是在其前方或后方;同时还建立了基于多个加工参量的线宽数学模型。此线宽模型首先假定激光束经物镜变换后,在...
关键词：集成光学 动态高斯模型 离焦写入 激光图形发生器 线宽 
EM-5009B激光图形发生器光栏的修正方法
《微电子学》2005年第6期591-593,596,共4页邓建国 刘玉奎 印子华 邹昭伟 
激光图形发生器是半导体掩膜制版的主要设备之一,它具有精度高、结构复杂、操作简单和生产效率高等特点,但是,其光栏精度对加工的版图精度有很大的影响。文章根据光栏的结构原理和实际应用,详细阐述了EM-5009B激光图形发生器光栏的修正...
关键词：半导体设备 激光图形发生器 光栏 
激光图形发生器调焦系统设计被引量：1
《光电子．激光》2005年第10期1202-1205,共4页梁宜勇 白剑 杨国光 
为提高激光图形发生器的线条制作精度和制作效率,设计了新的调焦系统。调焦采用光学离轴探测原理,调焦辅助光源直接采用半导体激光器(LD)的准直椭圆光束,探测器为二象限光电池,离焦信号则采用除法构建。调焦系统具有过阻尼的二阶系统特...
关键词：激光图形发生器 光学调焦 离焦量 动态特性 
EM-5009b激光图形发生器漏曝和曝光移位现象研究
《集成电路通讯》2003年第2期16-18,共3页方澍 
针对EM-5009b激光图形发生器出现漏曝、曝光移位问题，通过实验和分析。总结了产生漏曝、曝光移位现象的一些原因。
关键词：EM-5009b 激光图形发生器 漏曝 曝光移位 掩膜版 数据格式 
大幅提高ЭМ-5009Б激光图形发生器的曝光速率
《半导体情报》1999年第5期63-64,F003,共3页田振文 刘贵增 王维军 
根据ЭМ－５００９Б激光图形发生器的工件台运动方式，
关键词：激光图形发生器 曝光速率 VLSI 
EM-5009B激光图形发生器的数据处理
《微处理机》1998年第4期11-14,共4页高强 赵海法 
由设计部门转到制版部门的数据需要经过格式转换、测试等处理过程才能进行图发操作。本文介绍了数据的格式和数据的测试以及格式转换的处理过程。
关键词：制版工艺 图形发生器 数据处理 激光 半导体器件 
ЭМ-5009Б激光图形发生器结构原理及维修实例
《半导体情报》1998年第4期56-58,共3页田振文 
简要介绍了白俄罗斯产ЭМ－５００９Б激光图形发生器的结构原理；结合实例说明一般维修方法的实现过程。
关键词：激光图形发生器 信号传输 结构 维修 
ISI-2802激光直写系统简介
《光电工程》1997年第S1期113-113,共1页
ＩＳＩ┐２８０２激光直写系统简介微细加工光学技术国家重点实验室于１９９６年从加拿大引进了国内第一台激光直写系统（又称激光图形发生器），型号为ＩＳＩ－２８０２，生产厂家是ＩｎｔｅｒｔｅｃｈＳｙｓｔｅｍｓＩｎｃ．。１系统...
关键词：激光直写系统 二元光学元件 掩模版 微细加工 国家重点实验室 激光图形发生器 二元光学器件 技术服务 净化水设备 光学技术 
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