EM-5009b激光图形发生器漏曝和曝光移位现象研究  

作　　者：方澍 

机构地区：[1]中国兵器工业第214研究所蚌埠233042

出　　处：《集成电路通讯》2003年第2期16-18,共3页

摘　　要：针对EM-5009b激光图形发生器出现漏曝、曝光移位问题，通过实验和分析。总结了产生漏曝、曝光移位现象的一些原因。

关 键 词：EM-5009b 激光图形发生器 漏曝 曝光移位 掩膜版 数据格式 

分 类 号：TN911.73[电子电信—通信与信息系统]