大幅提高ЭМ-5009Б激光图形发生器的曝光速率  

Enhancem entof the Exposure Rate of EM-5009B

作　　者：田振文[1] 刘贵增[1] 王维军[1] 

机构地区：[1]电子十三所,石家庄050051

出　　处：《半导体情报》1999年第5期63-64,F003,共3页Semiconductor Information

摘　　要：根据ЭМ－５００９Б激光图形发生器的工件台运动方式，　This paper introduces a m ethod thateffectively prom ots the exposure rate ofEM-5009Blaser pattern generatoraccording to the stage m ovem entm ode.

关 键 词：激光图形发生器 曝光速率 VLSI 

分 类 号：TN470.5[电子电信—微电子学与固体电子学] TN305.7