U薄膜和U-A1微靶制备  

作　　者：吕学超 任大鹏 杜凯 谢军 郑凤成 

出　　处：《中国工程物理研究院科技年报》2004年第1期278-278,共1页Annual Report of China Academy of Engineering Physics

摘　　要：近年来，随着激光器功率的大幅度提高和性能完善，应用领域逐步扩大。U薄膜和U—A1微靶的制备是其应用需求之一。对于U薄膜的制备，考虑U是易氧化的材料，为克服PVD技术沉积U薄膜所带来的密度低、易氧化等不足，实验在现有设备的基础上采用机械抛光技术制备了U薄膜以及组装制备U—A1靶，并采用专用表面轮廓仪等对该类薄膜的参数、构型等进行表征。

关 键 词：U薄膜 靶制备 PVD技术 表面轮廓仪 抛光技术 大幅度 激光器 应用 

分 类 号：TB43[一般工业技术]