检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:张谷令[1,2] 吴杏芳[1] 顾伟超[2] 陈光良[2] 冯文然[2] 牛二武[2] 李立[2] 吕国华[2] 陈皖[2] 范松华[2] 刘赤子[2] 杨思泽[2]
机构地区:[1]北京科技大学材料科学与工程学院 [2]中国科学院物理研究所,北京凝聚态物理国家实验室,北京100080
出 处:《自然科学进展》2006年第11期1371-1378,共8页
基 金:国家自然科学基金(批准号:50071068;10275088)国家"八六三"计划(批准号:2002A331020)美国ARO-FE基金(批准号:N62649-02-1-0010)北京市科委高新科技发展项目(批准号:H020420160130)资助项目
摘 要:综述了近年来国内外利用等离子体方法实现金属管件内表面强化的研究进展.介绍了几种管件内表面等离子体源离子注入和沉积技术,并对其优缺点分别加以分析.详细介绍了中国科学院物理研究所等离子体物理实验室先后提出的几种等离子体源离子注入方法用于金属管件内表面改性的原理、技术特点及最新研究进展.力图展望管件内壁离子注入技术研究的发展前景.
关 键 词:等离子体源 离子注入 金属管件 内表面 表面改性
分 类 号:TG174.444[金属学及工艺—金属表面处理]
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