光学微细加工技术现状及发展前景  

作　　者：马云骧 

机构地区：[1]机电部第四十五研究所

出　　处：《电子工业专用设备》1990年第3期2-12,27,共12页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：光学曝光技术在八十年代得到了飞速发展,它已成为半导体微细加工极为重要的手段。光学微细加工技术的大发展,促进了半导体集成电路制造技术的发展。 回顾半导体光学微细加工技术发展现状,探讨其发展前景,对进一步发展我国的半导体集成电路工业将是十分有益的。

关 键 词：光学曝光 微细加工技术 半导体 

分 类 号：TN405.985[电子电信—微电子学与固体电子学]