^(52)Cr原子光刻制作纳米结构研究  

Research on nanostructures fabricated by atom lithography with ^(52)Cr

作　　者：张文涛[1] 李同保[1] 

机构地区：[1]同济大学

出　　处：《量子电子学报》2007年第1期85-88,共4页Chinese Journal of Quantum Electronics

基　　金：上海市科学技术发展基金项目(0259nm034)资助

摘　　要：纳米结构制作技术中,原子光刻具有独特的优势。为了能够达到纳米制作的要求,并得到所需的沉积条纹,设计了一套实验装置,并分别对原子光刻技术中的原子源、激光系统、稳频系统、原子准直系统和沉积结果进行具体的分析。根据所设计的实验装置,采用分步实验的方式,对各子系统进行了相关数据的采集和测试。其中,稳频精度达到了0．26 MHz精度,铬原子发散角经激光冷却系统由4．5 mrad降低到了0．9 mrad,最后沉积的纳米条纹间距为234 nm条纹高度约为0．276 nm。In the nanostructures fabrication technologies, atom lithography has particular advantages. In order to satisfy the requirements of fabrication of nanometer scale structure, we designed an experimental setup for chromium atomic lithography and analysed the chromium atomic sources, laser system, frequency stabilization system, atom beam collimation system and the deposition results. The frequency stabilization precision reach to 0.26 MHz. By laser cooling, the divergence of the chromium atomic beam was reduced from 4.5 mrad to 0.9 mrad. The resulting nanolines exhibit a.period of 234 nm with height of 0.276 nm.

关 键 词：原子光学 纳米结构 原子光刻 沉积图案 

分 类 号：TN249[电子电信—物理电子学]