AZO透明导电薄膜的制备技术及应用进展  

PREPARATION AND APPLICATION OF TRANSPARENT CONDUCTIVE AZO THIN FILM

作　　者：刘玉萍[1] 陈枫[1] 郭爱波[1] 李斌[1] 但敏[1] 刘明海[1] 胡希伟[1] 

机构地区：[1]华中科技大学电气与电子工程学院,湖北武汉430074

出　　处：《真空与低温》2007年第1期1-5,20,共6页Vacuum and Cryogenics

基　　金：华中科技大学校基金(No.2006M044B)资助;教育部留学归国人员科研启动基金资助(2006)

摘　　要：概述了国内外AZO透明导电薄膜的多种制备技术和开发应用进展。详细介绍了磁控溅射、溶胶-凝胶、脉冲激光沉积、真空蒸镀、化学气相沉积等工艺在AZO薄膜制备中的研究现状,并且在对AZO膜与ITO膜性能比较的基础上,指出AZO薄膜的产业化前景好。The multiform preparation technologies and applications developments on AZO thin film are described. The current research status of magnetron sputtering, sol-gel, Pulsed laser deposition, vacuum evaporating and chemical-vapor deposition techniques applied in the preparation of AZO thin film is introduced-in detail. The industrialization for AZO films in the future is more promiseful than ITO thin film.

关 键 词：AZO薄膜 制备技术 综述 透明导电氧化物薄膜 

分 类 号：TN304.21[电子电信—物理电子学] O484[理学—固体物理]