双重图形推动浸没式光刻继续前进  

作　　者：Aaron Hand（编） 

机构地区：[1]《集成电路应用》执行主编

出　　处：《集成电路应用》2007年第4期26-29,共4页Application of IC

摘　　要：随着高折射率浸没式光刻看起来并不比其他光刻方案更有希望,业界现在开始热烈地讨论双重图形。

关 键 词：光学光刻 浸没式 图形 高折射率 水浸式 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]