工艺制造  

出　　处：《集成电路应用》2007年第5期12-12,14,共2页Application of IC

摘　　要：中芯国际上海12英寸生产线6月装机；茂德获准在大陆投建采用0．18微米工艺晶圆厂；BCD采用先进BiCMOS工艺生产单路低电压运算放大器；华虹NEC获Cypress 0．13微米NVM工艺授权；

关 键 词：工艺制造 0.18微米工艺 BICMOS工艺 CYPRESS 运算放大器 生产线 低电压 BCD 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]