雾状缺陷问题是可以解决的  

作　　者：Laura Peters 

机构地区：[1]Semiconductor International

出　　处：《集成电路应用》2007年第5期29-29,共1页Application of IC

摘　　要：在上期本专栏的《掩膜版寿命受到的雾状缺陷限制》一文中，我们讨论了掩膜版上雾状缺陷的主要类型和曝光波长为193和248nm时的掩膜版寿命。而在此我们将讨论雾状缺陷问题的严重程度．并对控制这类缺陷所需的努力进行评估。

关 键 词：缺陷 掩膜版 严重程度 光波长 寿命 类型 评估 控制 

分 类 号：TP212[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]