用于光刻的小型KrF准分子激光器及光学系统  

A Small KrF Excimer Laser and Optical System for Optical Etching

作　　者：张兆平[1] 马树森[1] 秦玉英 熊旭明 

机构地区：[1]中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥230031

出　　处：《量子电子学报》1997年第3期236-239,共4页Chinese Journal of Quantum Electronics

摘　　要：本文报道了用于半导体光刻的一体化小型KrF准分子激光器及光学系统的性能。获得了16mm×40mm的均匀光斑，光强分布不均匀性＜±5％光密度～1mJ／cm2。最后讨论了改善微区均匀性的方法。篈 small KrF excimer laser and optical system for optical etching is developed.The16 mm×40 mm homogeneous laser beam is obtained with intensity inhomogeneity< ±15%and density 1 mJ/cm2. The means of improving micro-region homogeneity is discussed

关 键 词：准分子激光器 光斑均匀性 光刻 

分 类 号：TN248.22[电子电信—物理电子学]