微波等离子体化学气相沉积技术制备金刚石薄膜的研究  

Studies on Diamond Film Grown by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition

作　　者：罗丽[1] 汪明朴[1] 谢丹[1] 李周[1] 

机构地区：[1]中南大学材料科学与工程学院,长沙410083

出　　处：《材料导报（网络版）》2006年第2期36-39,共4页Materials Review

基　　金：国家“十五”攻关子项目（编号： 2001BA310A03-1）

摘　　要：介绍了微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）制备金刚石薄膜的研究情况，重点论述了该法的制备工艺对金刚石薄膜质量的影响及其制备金刚石薄膜的应用前景。Studies of diamond film grown by microwave plasma chemical vapor deposition are introduced. The influence of the process parameter on the qualities of diamond film is reviewed emphatically, and the application of the microwave plasma chemical vapor deposition to prepare diamond film is discussed.

关 键 词：微波等离子体 化学气相沉积 金刚石薄膜 

分 类 号：TQ320.721[化学工程—合成树脂塑料工业]