罗门哈斯推出高级化学机械研磨(CMP)专用新型VISIONPAD^(TM)产品  

出　　处：《电子工业专用设备》2007年第8期60-60,共1页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：在全球半导体行业化学机械研磨（CMP）技术及创新方面处于领先地位的罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部近日宣布其VisionPad？研磨垫系列又增添了二款新品。这二款产品可提供世界级的低生产缺陷率、极高的研磨能力和更长的使用寿命。

关 键 词：化学机械研磨 产品 罗门哈斯电子材料公司 CMP技术 半导体行业 使用寿命 研磨能力 缺陷率 

分 类 号：TN405.96[电子电信—微电子学与固体电子学]