CMP技术

作品数：43被引量：57H指数：5
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相关期刊：《半导体信息》《河北工业大学学报》《电子工业专用设备》《今日科技》更多>>
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用于最新技术节点Ge和SiGe的CMP技术研究进展被引量：1
《微纳电子技术》2016年第9期623-629,共7页潘柏臣 张保国 赵帅 周朝旭 
河北省高层次人才资助项目百人计划项目(E2013100006)
对锗和锗化硅材料应用及发展前景进行了简单介绍。主要论述了在14 nm技术节点以下应用于pMOS晶体管沟道材料的锗的化学机械抛光(CMP)技术的发展现状,如抛光液组分的优化以及工艺参数的革新,经过CMP后,Ge的表面粗糙度可以有效降低到0.175...
关键词：锗 锗化硅 14 nm技术节点 化学机械抛光(CMP) 沟道材料 
氮化镓晶片的CMP技术现状与趋势被引量：7
《电子工业专用设备》2016年第1期10-14,共5页熊朋 王铮 陈威 史霄 杨师 
综述了半导体材料氮化镓(Ga N)抛光技术的发展,介绍了Ga N晶片化学机械平坦化(Chemical Mechanical Planarization,CMP)技术的研究现状,分析了CMP的原理和工艺参数对抛光的影响,指出了CMP亟待解决的技术和理论问题,并对其发展方向进行...
关键词：GaN晶片 化学机械抛光 抛光工艺 
超精密平面抛光关键技术研发及产业应用
《今日科技》2016年第1期49-49,共1页
本项目对超精密平面抛光基础理论、关键技术和装备开展了系统的研究和开发工作,并取得了重要突破：（1）发明了半固着软质磨粒CMP技术,建立了对环境无污染的高效无损伤抛光工艺,抛光效率比传统CMP技术提高6倍.（2）创立了抛光均匀性分...
关键词：超精密平面抛光 CMP技术 质量稳定性 应用 产业 研发 抛光工艺 加工精度 
极大规模集成电路平坦化工艺与材料——河北工业大学刘玉岭教授研究成果
《科技成果管理与研究》2013年第11期86-87,共2页王燕 
随着微电子技术进入65nm及以下技术节点．集成电路布线层数已达10层以上，布线间介质使用LowK介质。每层都必须进行化学机械抛光（CMP），使平整度达到纳米级、粗糙度达埃米级的光刻要求，需要低机械强度（1Psi以下）完成CMP，实现表面...
关键词：大规模集成电路 专用材料 河北工业大学 研究成果 平坦化 CMP技术 工艺 化学机械抛光 
CMP技术的简介
《中国科技博览》2013年第17期322-323,共2页康洪亮 王云彪 黄彬 张春翔 吴桐 
本文通过查阅一些文献，简单的介绍了化学机械抛光技术的基本原理．对影响化学机械抛光的主要因素进行了主要分析，井对其研究发展趋势进行了一下展望，以方便读者对化学机械抛光技术进行初步了解。
关键词：化学机械抛光 抛光液 抛光垫 影响因素 发展趋势 
PERT／CMP技木在工务铝热焊施工中的运用初探
《决策与信息（下旬）》2013年第2期198-199,共2页宋茂林 
当前，根据铁路提速的要求，工务各项施工作业受施工天窗点的限制越来越大，对于工务部门来讲，对施工项目的安排及时间的把握成为一个重要的课题。要做到既保证在有限的时间内完成施工作业，又能保证施工的质量水平，这就对施工前后的...
关键词：PERT CMP技术 工务铝热焊 
HACMP技术在民航气象数据库中的应用
《空中交通》2012年第8期47-49,共3页丁艳丽 郭培贤 纪鹏飞 张远晖(编校) 
引言现运行于民航华北空管局气象中心的中国民航气象数据库及传真广播系统始建于1994年，利用当时先进的技术手段，建设了由7个民航地区气象中心、53个航站组成的分布式广域网数据库系统。此套系统为单点服务器24小时业务不间断运行，...
关键词：民航气象数据库 CMP技术 传真广播系统 数据库系统 民航华北空管局 应用 HA 硬件故障 
硅抛光片(CMP)市场和技术现状被引量：4
《云南冶金》2012年第1期40-44,共5页张志坚 张凡 邱光文 彭茂公 王红鹰 俞琨 
介绍了硅抛光片在硅材料产业中的定位和市场情况,化学机械抛光(CMP)技术的特点,硅抛光片大尺寸化技术问题和发展趋势,以及硅抛光片技术指标,清洗工艺组合情况等。
关键词：硅抛光片 CMP技术 清洗 
TCP／IP技术——楼宇可视对讲系统飞跃发展的基石被引量：1
《A&S（安防工程商）》2011年第8期102-104,共3页丁雄刚 
随着近几年智能化小区的蓬勃发展，作为智能化小区重要的组成部分——楼宇可视对讲系统，在产品结构和系统功能上得到了飞速发展，从最早的多线制不联网系统，发展为总线制联网系统，直到今天的TCMP系统，且基于TCMP技术的可视对讲系统...
关键词：TCP/IP技术 可视对讲系统 楼宇 智能化小区 联网系统 CMP技术 组成部分 产品结构 
空间太阳电池用超薄Ge单晶片的CMP技术被引量：1
《半导体技术》2010年第4期361-364,共4页林健 赵权 刘春香 杨洪星 
以Ge单晶抛光片为衬底的空间太阳电池在我国的应用已越来越多。目前,抛光后Ge单晶片的几何参数,尤其是表面状态常不能满足使用要求。介绍了超薄Ge衬底片抛光的工艺技术,开展了抛光压力、抛光盘转速与抛光去除速率的关系实验,对影响Ge单...
关键词：锗单晶片 抛光 空间太阳电池 
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