硅抛光片

作品数：35被引量：27H指数：3
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半导体应用需求强劲 国产龙头有研硅潜力巨大
《投资有道》2022年第12期64-65,共2页夏珖玘 
有研半导体硅材料股份公司(以下简称:有研硅)主要从事半导体硅材料的研发、生产和销售,主要产品包括半导体硅抛光片、刻蚀设备用硅材料、半导体区熔硅单晶等,主要用于分立器件、功率器件、集成电路、刻蚀设备用硅部件等的制造,并广泛应...
关键词：分立器件 半导体 集成电路 硅材料 硅抛光片 潜力巨大 功率器件 科创板 
硅溶胶抛光液对硅单晶抛光片表面质量的影响被引量：2
《半导体技术》2021年第10期788-794,共7页索开南 张伟才 杨洪星 郑万超 
硅抛光片表面质量除了受抛光工艺参数影响外,在很大程度上还受抛光液的影响。通过检测表面Haze值和粗糙度,研究硅抛光片表面形貌,分析不同抛光液对抛光片表面质量的影响,确定不同抛光阶段对抛光液的要求。研究结果表明粗抛光过程是以化...
关键词：硅抛光片 硅溶胶 抛光液 Haze值 粗糙度 
硅抛光片全自动湿法清洗设备的研制被引量：1
《清洗世界》2019年第11期22-24,27,共4页祝福生 夏楠君 王文丽 郭立刚 赵宝君 
硅抛光片清洗的目的在于清除有机物沾污、表面颗粒、金属沾污、自然氧化膜等。本文阐述了硅抛光片湿法清洗的工作原理,并对硅抛光片全自动湿法设备的组成、结构及单元模块的主要功能进行了详细介绍。
关键词：硅抛光片 湿法清洗 表面颗粒 兆声清洗 
河南洛单成功拉制8英寸电路级单晶硅棒
《有色冶金节能》2018年第5期65-65,共1页
日前，洛阳单晶硅集团有限责任公司（洛单集团）成功拉制8英寸电路级单晶硅棒，标志着洛单集团年产36万片8英寸硅抛光片项目试生产成功，将进一步提升我国硅片行业国产化水平。
关键词：单晶硅 电路 拉制 河南 硅抛光片 试生产 国产化 硅片 
硅化学腐蚀片电容法测厚与机械法测厚差异的原因分析被引量：3
《电子工艺技术》2016年第3期168-170,186,共4页田原 杨静 王云彪 
在硅片厚度测量工作中,发现硅化学腐蚀片采用机械测厚和电容法测厚所得的数据存在差异,通过一系列对比实验对这一差异产生的原因进行了合理分析。首先,以硅抛光片作为对比,分别测试了硅抛光片与硅化学腐蚀片在采用两种测厚方法测厚时的...
关键词：电容法测厚 机械法测厚 硅化学腐蚀片 硅抛光片 
硅抛光片表面疏水改性工艺研究被引量：1
《电子工业专用设备》2014年第7期13-17,21,共6页黄彬 冯琬评 
采用稀释HF溶液对亲水性的硅抛光片表面进行了疏水改性,并对HF腐蚀硅片表面氧化层、钝化表面的机理进行了分析。研究了HF溶液浓度和反应时间对硅抛光片表面颗粒度和接触角的影响,通过对比分析,得到了HF溶液疏水改性的最佳浓度和最佳反...
关键词：疏水改性 接触角 颗粒度 兆声溢流 
硅抛光片表面时间依赖性雾产生的原因分析被引量：3
《微纳电子技术》2013年第12期803-806,共4页刘云霞 史训达 李俊峰 林霖 赵晶 刘卓 
国家科技重点专项资助项目(2010ZX02302)
阐述了硅片表面时间依赖性雾(TDH)的形成过程、颗粒分布、形态以及检测方法。时间依赖性雾产生的原因包括清洗后化学液体的残留、清洗后硅片的干燥程度、片盒的洁净度和干燥度、表面金属以及硅片存放的环境(洁净度、温湿度和化学气氛)...
关键词：时间依赖性雾(TDH) 金属 颗粒 硅抛光片 湿度 
超大规模集成电路用硅片产业化被引量：2
《世界科学》2013年第6期55-56,共2页刘浦锋 
目前国内企业生产的硅片主要以直径4—6英寸抛光片为主，8英寸抛光片尚不能实现大批量生产,12英寸抛光片更是只能在实验室制造，远不能满足国内集成电路企业需求。我国硅抛光片无论从质量还是数量上来看，与国际先进水平还存在很大的差距。
关键词：超大规模集成 硅片 产业化 硅抛光片 路用 大批量生产 企业生产 企业需求 
夹具形状对硅抛光片表面质量的影响被引量：1
《电子工艺技术》2013年第2期122-124,共3页杨洪星 陈亚楠 
在硅抛光片的清洗技术中,湿法清洗技术仍然是主流清洗技术。随着抛光片尺寸增大,传统的手工清洗方式和半自动清洗方式已经不适于大尺寸硅抛光片的清洗,因此全自动湿法清洗设备逐步在大尺寸硅抛光片清洗设备中占据主导地位。在湿法清洗...
关键词：硅抛光片 夹具形状 清洗技术 色斑 
125mm低阻硅抛光片清洗技术研究
《电子工业专用设备》2012年第6期46-48,共3页耿莉 杨洪星 
在125 mm(5英寸)硅抛光片清洗过程中,发现硅片边缘容易出现"色斑"现象。对这一现象进行了分析,通过工艺试验,消除了这种现象。
关键词：硅 清洗技术 色斑 
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