兆声清洗

作品数：25被引量：55H指数：5
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相关领域：电子电信更多>>
相关作者：刘玉岭檀柏梅李薇薇黄雅婷董秀萍更多>>
相关机构：河北工业大学北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)清华大学杭州众硅电子科技有限公司更多>>
相关期刊：《半导体技术》《集成电路应用》《机电工程技术》《电子器件》更多>>
相关基金：国家自然科学基金国家科技重大专项云南省应用基础研究基金国家高技术研究发展计划更多>>
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基于Comsol的光刻模具兆声清洗换能器声场辐射仿真优化设计
《机电工程技术》2025年第1期28-32,共5页刘延星 朱相宇 关俊祥 黎浩东 姚泽成 
国家自然科学基金资助项目(51905098)。
在光刻模具清洗中,兆声波技术展现出其独特的优势,兆声清洗能够去除小于0.2μm的微小颗粒,且避免了空化现象可能引起的对物件表面的损伤。然而,兆声清洗换能器不同匹配层的水域声场分布差别很大,且目前鲜有关于兆声清洗换能器方面的研...
关键词：光刻模具 兆声换能器 匹配层 水域声压 
硅基钽酸锂异质晶圆键合工艺研究被引量：2
《人工晶体学报》2024年第4期634-640,共7页陈哲明 丁雨憧 邹少红 龙勇 石自彬 马晋毅 
科工局项目(JPPT-XX)。
5G移动通信的发展对声表面波滤波器提出了高频、小型化、集成化的要求。相较于传统压电体单晶材料,采用硅基压电单晶薄膜材料制备的声表面波滤波器具有高频、低插入损耗、高温稳定性等优势,是高性能声表面波器件发展的核心基础材料。Sma...
关键词：硅基钽酸锂 低温直接键合 等离子活化 兆声清洗 预键合 键合加固 声表面波滤波器 
硅抛光片全自动湿法清洗设备的研制被引量：1
《清洗世界》2019年第11期22-24,27,共4页祝福生 夏楠君 王文丽 郭立刚 赵宝君 
硅抛光片清洗的目的在于清除有机物沾污、表面颗粒、金属沾污、自然氧化膜等。本文阐述了硅抛光片湿法清洗的工作原理,并对硅抛光片全自动湿法设备的组成、结构及单元模块的主要功能进行了详细介绍。
关键词：硅抛光片 湿法清洗 表面颗粒 兆声清洗 
硅片兆声清洗技术的优化设计被引量：2
《清洗世界》2017年第10期31-36,共6页阎占全 
介绍硅片表面兆声清洗技术的原理,研究硅片湿法清洗的原理,分析硅片兆声清洗的方法及流程图,比较了这些方法各自的特性,根据课题要求,基于兆声清洗的工艺流程,优化出适合于IC硅片的湿法清洗技术。
关键词：集成电路 IC硅片 湿法 兆声清洗 优化 
兆声清洗在GaAs PHEMT栅凹槽工艺中的应用
《半导体技术》2017年第3期219-222,共4页周国 张力江 
对GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)在栅凹槽光刻和栅凹槽腐蚀过程中光刻窗口内经常出现的一些沾污颗粒进行了分析。设计了一系列实验来分析残留在芯片上的颗粒度参数,采用4英寸(1英寸=2.54 cm)圆片模拟实际的栅凹槽清洗工艺过程,利...
关键词：GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT) 栅凹槽 颗粒沾污 兆声清洗 漏电 
浅析半导体硅片的超声和兆声清洗技术
《环球市场》2017年第5期194-194,共1页宋玮 
实际工作中，半导体硅片的清洁程度对太阳能电池的继续发展有着很大的影响，所以人们对半导体硅片清洗的方法提出了更苛刻的要求。半导体硅片在经过切片、倒角、研磨、抛光等加工过程中，表面会受到不同程度的污染，比如颗粒、金属离子...
关键词：半导体硅片 超声清洗 兆声清洗 
蓝宝石晶片加工中的技术关键和对策被引量：12
《人工晶体学报》2016年第4期859-867,共9页张保国 刘玉岭 
河北省百人计划项目(E2013100006)
传统的粗磨工艺在加工蓝宝石薄片过程中遇到很大挑战,易于产生崩边、隐裂和碎片等问题。双面金刚石研磨、单面金刚石磨削、双面金刚石研磨垫等新工艺可以解决上述这些问题。在蓝宝石精磨工艺中,细粒碳化硼和金刚石颗粒镶嵌的陶瓷研磨盘...
关键词：蓝宝石薄片 金刚石研磨盘 蓝宝石精磨 兆声清洗 
CMP设备兆声清洗原理及应用被引量：4
《电子工业专用设备》2015年第11期32-35,共4页史霄 郭春华 杨师 熊朋 
从空化作用和声波流作用两方面对兆声清洗的物理原理进行深入分析,研究了兆声频率及功率对空化强度、边界层厚度、声波流速等关键因素的影响,从而阐明兆声波清洗的特点及其适用场合。同时以AMAT公司的设备为例,介绍了兆声波清洗在CMP后...
关键词：兆声波清洗 兆声频率 化学机械平坦化 后清洗 
单片晶圆兆声清洗的仿真模型研究被引量：1
《红外技术》2015年第1期48-53,共6页朱亚安 段瑜 宋立媛 孙琪艳 殷艳娥 杨炜平 万锐敏 季华夏 
云南省应用基础研究重点项目;编号:2012FA004
通过研究单片晶圆兆声清洗过程中兆声头在晶圆表面的运动轨迹和能量积累过程,构建了单晶圆清洗的兆声能量分布和颗粒去除过程的数学模型。通过Mathematica 9.0对模型进行了运算和简化,经过离散化处理后,运用MATLAB对几种硅片转速和兆声...
关键词：单片晶圆 兆声清洗 仿真模型 
高频超声清洗中声场分布的仿真及实验研究被引量：3
《河北科技大学学报》2014年第4期324-329,共6页谢爱云 黄雅婷 冯涛 董秀萍 
国家自然科学基金(51205006)
高频超声乃至兆声清洗广泛应用于半导体器件的超精密清洗,可以有效去除纳米颗粒污染。其中,声能在声场中的分布决定了清洗效果,包括去除均匀性和清洗对象破坏。对于矩形清洗槽内的声场分布,采用简正分解理论直接求解声压分布。结果表明...
关键词：兆声清洗 纳米颗粒 声场 计算机仿真 
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