偏压对多弧离子镀TiN膜层的影响  

作　　者：辛煜[1] 范叔平[1] 宁兆元[1] 杨礼富[1] 薛青[2] 金宗明[2] 

机构地区：[1]苏州大学薄膜材料实验室 [2]苏州大学测试中心

出　　处：《表面技术》1997年第1期8-10,共3页Surface Technology

摘　　要：主要运用多弧离子镀技术研究了偏压对不锈钢基片上镀制的TiN膜层的影响,运用扫描电子显微镜(SEM),X-射线衍射仪(XRD)和附着力测定仪研究了膜表面的钛滴、针孔、膜的取向和临界载荷等性能。结果表明:低偏压下膜表面的针孔密度较小,高偏压下钛滴趋于细化。划痕试验表明:在150～200V偏压下膜层的临界载荷最佳。

关 键 词：多弧离子镀 喷镀 氮化钛 离子镀 镀膜 偏压 

分 类 号：TG174.442[金属学及工艺—金属表面处理]