光学光刻和射线光刻技术的发展──参加ICO—17述评  

DEVELOPMENT OF OPTICAL MICROLITHOGRAPHY AND X-RAY LITHOGRAPHY──ICO─17 REVIEW

作　　者：冯伯儒[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所,成都610029

出　　处：《微细加工技术》1997年第1期1-7,共7页Microfabrication Technology

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：结合对1996年第17届国际光学学会会议的简介，评述了光学光刻和X射线光刻技术的发展概况。对一些相关技术，如激光等离子体X射线源、掩模、抗蚀剂、X射线光学元件和光刻装置的发展近况也做了一些介绍。In the paper introduced is the ICO-17 (17th Congress of the InternationalCommission for Optics, Aug 19-23, 1996, Taejon, korea) . The advances of opticalmicrolithography and X-ray lithography are reviewed. The related technologies,such as laser-plasma X-ray source, masks, resists, X-ray elements and X-raylithography system are also presented.

关 键 词：国际 光学学会会议 光学光刻 X射线光刻 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] O43－27[机械工程—光学工程]