40V高压LCD驱动器工艺研发  

作　　者：陈华伦 熊涛 陈雄斌 

机构地区：[1]华虹NEC电子有限公司技术开发部

出　　处：《集成电路应用》2007年第9期43-46,共4页Application of IC

摘　　要：随着液晶面板的兴起以及越来越大的尺寸，高压LCD驱动日渐受到市场的关注，但高电压（40V以上）的工艺在国内基本还处于空白。本文着重介绍40V高压工艺平台所面临的主要问题和关键工艺：锑注入，外延生长之后的光刻对准和非金属硅化物接触孔等。另外，由于成本的控制以及保证相当的市场竞争力，该套工艺开发的掩膜版层数是相当的少，仅有16层，这就给器件的调整带来了极大的复杂度和难度，一次器件的调整往往同时影响好几种器件，顾此失彼。同时基于良率的考虑，我们将主要精力集中在这些关键工艺的开发和器件的调整，最终通过所有的验证，并达到了99％的良率。

关 键 词：LCD驱动器 关键工艺 高压工艺 市场竞争力 研发 工艺开发 金属硅化物 液晶面板 

分 类 号：TN873.93[电子电信—信息与通信工程]