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出  处:《半导体行业》2007年第5期51-54,共4页

摘  要:三星制成0.08毫米半导体衬底 今年有望实现商用;海力士开发出层叠24层NAND型闪存的多芯片封装;恩智浦08年将量产“硅麦克风”;7家电子设备公司联手力顶下一代可移除闪存卡标准UFS;AMD图形技术成香饽饽 芯片厂商纷纷牵手合作;全球闪存产能在2008年将首度超越DRAM。

关 键 词:国际新闻 半导体衬底 多芯片封装 NAND型 闪存卡 电子设备 图形技术 芯片厂商 

分 类 号:TP333[自动化与计算机技术—计算机系统结构]

 

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