基于遗传算法的步进式扫描光刻机路径规划  

Trajectory Planning of Step-and-scan Lithography by Genetic Algorithm

作　　者：杨辅强[1] 吴运新[1] 

机构地区：[1]中南大学机电工程学院,长沙410083

出　　处：《机械科学与技术》2007年第12期1545-1547,共3页Mechanical Science and Technology for Aerospace Engineering

基　　金：国家自然科学基金委重大项目(50390064);上海市科委联合项目资助

摘　　要：根据步进式扫描光刻机硅片曝光过程的特点,建立了光刻机路径规划问题的数学模型。采用遗传算法对光刻机路径规划模型进行了合理的规划。规划结果表明,规划后的扫描路径能有效地提高光刻机的生产效率。Following the way in which a step-and-scan lithography exposes its wafer, we establish the mathematical model of its trajectory planning. We use genetic algorithm to plan its trajectory planning model. The planning results show that the planned scanning trajectory can enhance the efficiency of the step-and-scan lithography.

关 键 词：步进式扫描光刻机 遗传算法 路径规划 

分 类 号：TP391[自动化与计算机技术—计算机应用技术]