几种制备非晶硅膜的CVD新技术  

作　　者：程开富[1] 

机构地区：[1]电子工业部第四十四研究所

出　　处：《电子工业专用设备》1997年第2期27-32,共6页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：在介绍光—ＣＶＤ制备非晶硅膜的同时，简要介绍国外近几年报导的电子回旋共振微波等离子体低温ＣＶＤ（简称ＭＰＣＶＤ）、ＣＬＴ—ＣＶＤ。

关 键 词：CVD 非晶硅膜 半导体光电器件 

分 类 号：TN360.5[电子电信—物理电子学]