宽束冷阴极离子源  

作　　者：苗静 

出　　处：《西安工业大学学报》2007年第5期503-503,共1页Journal of Xi’an Technological University

摘　　要：离子束辅助镀膜是近20年来发展起来的新技术．宽束冷阴极离子源是离子束辅助蒸发技术的关键装置，具有寿命长，无灯丝可以连续工作、结构简单、操作方便，可使用多种惰性及反应气体等特点．同时，它还可以很方便地安装于真空镀膜设备中而不破坏其原有的功能和性能．宽束冷阴极离子源用于离子束辅助蒸发，可以提高膜层与基底间的附着力，提高膜层强度，膜层填充密度及析射率，膜层的环境耐受性，如耐磨、耐潮、耐盐、酸、碱等性能均得到大幅度提高．

关 键 词：离子源 冷阴极 宽束 离子束辅助镀膜 离子束辅助蒸发 真空镀膜设备 蒸发技术 反应气体 

分 类 号：TQ114.262[化学工程—无机化工]