离子束辅助镀膜

作品数：8被引量：37H指数：3
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相关作者：尤大伟武建军黄小刚李安杰任荆学更多>>
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相关期刊：《真空科学与技术学报》《激光与光电子学进展》《真空》《光学仪器》更多>>
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离子束改善薄膜光学特性研究
《激光与光电子学进展》2024年第21期417-423,共7页任翼 周亚东 金尚忠 
国家自然科学基金(22204154)。
提出并设计一款具有双腔室结构的加热灯丝型辅助离子源,解决现有灯丝型离子源无法通入氧化性气体作为工作气体或灯丝工作时间较短的问题,使得该离子源可以用于氧化物薄膜的辅助制备,兼具活化源的部分功能。同时,设计相关的实验验证提出...
关键词：离子束辅助镀膜 离子源 结构设计 透射率 折射率 吸收度 
制备光学薄膜的离子源技术概述被引量：21
《真空科学与技术学报》2009年第1期107-113,共7页尤大伟 
随着工业技术的发展及市场的需求,低能宽束离子源已广泛应用于微细加工的离子束刻蚀技术、材料改性的离子束注入混合技术和光学薄膜制备的离子束辅助镀膜技术。本文在多年该技术的实践与发展基础上,总结了制备光学薄膜的各种常用辅助镀...
关键词：光学薄膜镀膜 辅助镀膜离子源 离子束辅助镀膜 
宽束冷阴极离子源
《西安工业大学学报》2007年第5期503-503,共1页苗静 
离子束辅助镀膜是近20年来发展起来的新技术．宽束冷阴极离子源是离子束辅助蒸发技术的关键装置，具有寿命长，无灯丝可以连续工作、结构简单、操作方便，可使用多种惰性及反应气体等特点．同时，它还可以很方便地安装于真空镀膜设备中...
关键词：离子源 冷阴极 宽束 离子束辅助镀膜 离子束辅助蒸发 真空镀膜设备 蒸发技术 反应气体 
用于离子束辅助镀膜的两种模式端部霍尔离子源的比较被引量：5
《真空》2004年第5期38-41,共4页潘永强 朱昌 方勇 斯瓦德科夫斯基 达斯坦科 
介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的端部霍尔离子源的工作原理,并论述了端部霍尔离子源的离子能量、离子分布特性的测试方法;详细论述了电磁场和永久磁场两种模式下,端部霍尔离子源的工作稳定性、离子能量大小以及离子束分布特性...
关键词：离子束辅助镀膜 端部霍尔离子源 电磁场 永久磁场 
关于辅助沉积霍尔离子源的几个问题被引量：4
《真空科学与技术学报》2004年第4期279-282,共4页尤大伟 任荆学 黄小刚 武建军 
本文目的在于改进霍尔源的设计 ,实现宽能、大束流、低气耗、低污染、能自动化控制的新一代霍尔源。
关键词：光学镀膜 离子束辅助镀膜 等离子体加速器 霍尔离子源 
走向光学工业应用的辅助镀膜霍尔等离子体源被引量：4
《核技术》2002年第9期679-683,共5页尤大伟 李安杰 江建国 武建军 黄小刚 
论述了霍尔等离子体源的工作原理 ,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。本设计采用永久磁铁并利用极靴产生发散磁场 ,及沿轴向有较大梯度的磁场 。
关键词：光学工业 霍尔等离子体源 光学镀膜 离子束辅助镀膜 工作原理 霍尔电流加速器 
光学镀膜用大束密均匀区离子源
《光学仪器》2001年第5期53-57,共5页况园珠 郑保民 李安杰 
介绍一个适用于光学镀膜用的直径为1 2 0 mm的大束密均匀区离子源的结构设计及性能参数 。
关键词：离子源 束流密度 均匀性 光学薄膜 离子束辅助镀膜 
用于辅助镀膜的霍尔等离子体源被引量：5
《光学仪器》2001年第5期58-62,共5页尤大伟 黄小刚 武建军 
论述了该源的工作原理 ,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。设计采用了永久磁铁并利用极靴产生发散磁 ,沿轴向有较大梯度的磁场 ,又称该源为端部霍尔加速器。
关键词：光学镀膜 离子束辅助镀膜 等离子体加速 
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